用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如ya氣)，在高壓電場(chǎng)作用下氣體分子因電離而產(chǎn)生大量正離子。帶電離子被強電場(chǎng)加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發(fā)源材料(稱(chēng)為靶)。在離子轟擊下，蒸發(fā)源材料的原子將離開(kāi)固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。RF(射頻)濺射RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，淮北金屬表面不銹鋼鍍鈦，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進(jìn)行濺射。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類(lèi)：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等)，氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN)，金屬表面不銹鋼鍍鈦怎么收費，以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

PVD鍍膜與傳統的化學(xué)電鍍（水電鍍）相比有何優(yōu)點(diǎn)?

答:PVD鍍膜與傳統的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，金屬表面不銹鋼鍍鈦服務(wù)，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。

兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，金屬表面不銹鋼鍍鈦公司，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會(huì )產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜能否代替化學(xué)電鍍？

答：在現階段，PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的，并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外，在很多其他材料（如鋅合金、銅、鐵等）的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前，都需要先對它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較gao檔的五金制品上，對那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。